探究超细柱状靶的应用可行性

　　

磁控溅射技术以附着性能好，溅射温度低，沉积速率高等特点广泛应用于各种涂层制造中。柱状靶是磁控溅射镀膜仪器的核心部件，虽然其技术已经趋于成熟但是直径更细的柱状靶却很少见。本文主要介绍了超细柱状靶的开发设计以及实验验证过程，经过对磁控柱状靶的作用机理及实验分析，绘制出了超细柱状靶的结构图并制成成品。采用金属探针台阶仪对其所镀涂层厚度进行测试，实验结果显示该结构制造出来的柱状靶可以进行狭小空间的内表面镀膜和孔内加工，具有很强的应用可行性，为后期制备超细管件的内涂层提供了方便。

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