基于UiO-66光催化印迹复合膜的制备、表征及性能研究

　　

本文以UiO-66膜为基底膜，四环素为目标污染物，利用分子印迹技术对UiO-66表面进行特异性修饰赋予其具有识别四环素分子的功能，以此构建选择性光催化复合膜，探究最佳印迹比例、对复合方式进行性能研究，并结合XRD、FT-IR和UV-vis DRS对产品进行表征。实验结果为:150%印迹位的UiO-66对于四环素吸附性能最好；二氧化钛占比100%及二氧化钛包裹UiO-66材料的复合方式对于四环素光催化降解性能最好。将二氧化钛通过抽滤负载在膜上的复合方式最好。XRD和FT-IR谱图证实所得产品的分子结构和官能团无误，UV-vis DRS谱图表明通过实验增强了产品的光吸收性能。

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