ICP-MS测量电子级氢氟酸中的痕量金属Ti、V、Zn、As含量的探讨-王雪梅2025

　　

研究了用电感耦合等离子体质谱仪（ICP-MS）方法分析半导体用电子级氢氟酸中的痕量金属含量，所述痕量金属包含Ti、V、Zn、As元素，一样品同一天连续检测10次及同一样品连续检测10天的结果标准差均<0.33ppt。在半导体行业，ICP-MS所用试剂要求在ppt级，采用样品直接稀释法，在优化的实验条件下，采用ICP-MS实现了样品中的痕量金属含量测定。研究了用电感耦合等离子体质谱仪（ICP-MS）方法分析半导体用电子级氢氟酸中的痕量金属含量，所述痕量金属包含Ti、V、Zn、As元素，一样品同一天连续检测10次及同一样品连续检测10天的结果标准差均<0.33ppt。在半导体行业，ICP-MS所用试剂要求在ppt级，采用样品直接稀释法，在优化的实验条件下，采用ICP-MS实现了样品中的痕量金属含量测定。

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